納恩科技總部位于深圳市南山區，在香港設有研發分公司，公司專注于等離子材料表面處理和真空鍍膜技術研發，目前主要產品包括真空等離子磁控濺射鍍膜設備，離子濺射儀，等離子刻蝕設備，等離子表面處理設備，輝光放電儀等。 公司核心研發團隊來源于香港大學等離子實驗室，香港理工大學材料工程學院和美國佐治亞理工學院的微電子學院。團隊成員有5年在硅谷開發半導體設備的經驗，我們意識到許多現有的半導體等離子處理系統仍在使用十幾年前的技術，并且價格昂貴。因此，我們決定將針對半導體行業和核研究開發的的等離子技術引入經濟實惠的等離子設備中。 自成立以來，納恩科技圍繞等離子處理系統所需核心電源及底層算法進行技術布局，不斷拓展自主設計能力。目前已完成以MCU，ARM為核心的射頻芯片開發平臺，實現了芯片的結構化和模塊化開發。 具有模擬、網絡阻抗匹配、功率驅動、功率器件、射頻和底層核心算法的設計能力，可針對不同細分領域等離子處理系統需求，做出底層硬件組合，提高等離子系統的穩定性和效率。 納恩科技成立至今已為清華大學、香港大學、華為2012實驗室、北京大學、中國科學院、南方科技大學、美國康奈爾大學、賓夕法尼亞大學、等中外眾多企業、大學研究機構提供過等離子處理設備和解決方案，并專注于發展面向未來新材料市場的應用技術，助力客戶開發出激動人心的新工藝!