真空鍍膜設備存有著氣密性差的問題，假如鍍膜設備維護保養進行后，能做一次氣密性試驗，就可以規避許多不合格產品的造成，做到節省成本費用的效果。

對比幾個真空鍍膜機的檢漏方法：
氦質譜檢漏該工藝是真空鍍膜機真空檢漏技術里不可缺少的一種技術，因為檢漏率，簡單易使用，儀器設備反映靈敏，，不容易受別的氣體的影響，在檢漏中獲得了廣泛運用。氦質譜檢漏儀是依據質譜學基本原理，用氮氣作示漏氣體做成的氣密性檢測儀器。由離子源、解析器、回收器、冷陰極水解規構成的質譜分析室和吸氣系統及電氣一部分等構成。質譜分析室里的鎢絲發送出去的電子，在房間內不停地震蕩，并與房間內空氣和經漏孔進入到屋內的氦氣互相撞擊使其水解成共價鍵，這種氦離子在加快靜電場的作用下進入到磁場，因為洛倫茲力作用產生偏轉，產生圓弧狀軌道，更改加速電壓可使不一樣品質的離子通過磁場和接受縫抵達接收極而被檢驗。噴氦法、吸氦法是氦質譜檢漏儀在檢漏中經常使用的這兩種方式。采用真空法檢漏，鍍膜機不需要停機，直接在真空泵的旁路利用波紋管接入檢漏儀，在懷疑有漏的地方噴氦氣，即可完成檢漏。

真空鍍膜機為什么會越來越慢這種情況有兩種可能
1、設備內部由于長時間鍍膜導致有些臟東西在加熱時放氣，所以這種情況需要維護，即把內部屏蔽板拆下噴砂或脫膜，清理。
2、由微小的滲漏，沒有發現，尤其是各個傳動部位密封，這種情況就是比較難查，如果沒有檢漏儀，就只能一部分一部分拆卸或用盲板逐步替換予以排除。也有人用注射針頭注射酒精觀察真空計的變化檢查，但一般漏的不大時不好判斷，至于你說的真空1.9的那個其實也并不高，還有就是漏率是按照你的設備體積以及單位時間的真空下降程度來算的不是按照真空值計算的，比如你的真空泵抽速好，抽氣能力強就有可能克服微漏而使真空顯示較高的數值。

真空鍍膜機的工作原理如下：
在鍍膜領域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的一個重要因素。因此，當評價某薄膜樣品的性能時，需要檢測該薄膜樣品不同厚度下的性能。對于真空鍍膜的情形，這往往需要進行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個問題：，不同次生長的樣品，儀器的狀態不同，以至于影響薄膜樣品性能的因素可能不僅僅是厚度；其次，真空鍍膜實驗裝取樣品需要重新進行真空的獲得，非常耗時。增加了生產和檢測的成本。
因此，提供一種多功能磁控濺射鍍膜系統，本系統由真空鍍膜系統和手套箱系統集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸發鍍膜與手套箱組合，實現蒸鍍、封裝、測試等工藝全封閉制作，使整個薄膜生長和器件制備過程高度集成在一個完整的可控環境氛圍的系統中，消除有機大面積電路制備過程中大氣環境中不穩定因素影響，保障了、大面積有機光電器件和電路的制備。

真空鍍膜機工藝在光學儀器中的運用大家了解的光學儀器有望遠鏡、顯微鏡、照相機、測距儀，以及平時生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等，它們都離不開鍍膜技能，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

主要由真空鍍膜機室、真空抽氣機組及電柜（控制電柜、電子槍電柜）組成，其廣泛應用于微電子、光學成膜、民用裝飾、表面工程等領域。
光學鍍膜設備工作原理是在高真空狀態下、利用電子束對金屬或非金屬材料加熱到適當的溫度，材料受熱后蒸發成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸發源至被蒸發基片距離大，蒸發出來的蒸汽分子向四處直射，碰到基片就沉積在基片表面形成膜層。
維護與保養主要包換電子槍安裝與維護、光路的檢修與維護、設備的清洗與保養。