磁控濺射蒸發(fā)鍍膜信息我要推廣到這里
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二手韓一磁控濺射鍍膜機(jī)/雙靶磁控真空鍍膜機(jī)/磁控光學(xué)鍍膜機(jī)介紹 磁控濺射鍍膜技術(shù)是一種的表面處理技術(shù)，被廣泛應(yīng)用于各種領(lǐng)域。它利用磁場(chǎng)和電場(chǎng)的相互作用，將靶材表面的電子從束縛狀態(tài)激..04月03日 -
2023-2028年中國磁控濺射鍍膜設(shè)備行業(yè)研究分析與前景預(yù)測(cè)報(bào)告 【報(bào)告編號(hào)】:20284 【出版時(shí)間】:2022年11月 免費(fèi)售后服務(wù)一年，具體內(nèi)容及訂購流程歡迎咨詢本文調(diào)研和分析磁控濺射鍍膜設(shè)備發(fā)..04月06日
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磁控濺射鍍膜是一種物理氣相沉積技術(shù)，它涉及使用高能量的離子（通常是氬離子）轟擊作為靶材的涂層材料，使其原子被濺射出來并沉積在工件表面形成薄膜。磁控濺射鍍膜檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)（部分）1、 T/GV..04月06日
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10000.00元二手穩(wěn)壓電源 中頻電源20-60KW電源 直流電源二手弧電源 真空鍍膜電源 輸入相數(shù)：單相或三相 電壓：220/380V 頻率：50Hz 輸入方式：4線（含地線） 輸出波形：直線 功率：30KW /60KW /..01月23日
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NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機(jī)：的全自動(dòng)濺射系統(tǒng)帶有水冷或者加熱（可加熱至700度）功能；8“旋轉(zhuǎn)樣平臺(tái),可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 Torr，15分鐘內(nèi)..04月03日
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43800.00元金屬鍍膜磁控濺射薄膜監(jiān)測(cè)，7寸人機(jī)界面，自動(dòng)手動(dòng)模式切換控制，大功率1000w直流磁控濺射 單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與..08月18日
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2900.00元聲明由于原材料價(jià)格波動(dòng)較大，且產(chǎn)品價(jià)格..12月06日
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磁控濺射的工作原理是指電子在電場(chǎng)E的作用下，飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar正離子在電場(chǎng)作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶..03月26日
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NSC-3500（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能，可達(dá)到6"旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 Torr，15分鐘內(nèi)可以..04月03日
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100000.00元該設(shè)備 主要是（集）直流磁控濺射，中頻濺射和電弧離子蒸發(fā)三種技術(shù)融合一體，結(jié)合線離化源及泳沖偏壓鍍膜可使沉積顆粒細(xì)化。膜層各項(xiàng)性能提高，能在金屬制品及非金屬表面鍍制合金02月18日
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NSC-4000（M）磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能，可達(dá)8"旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，可支持4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 Torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 ..04月02日
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實(shí)力源多弧+中頻磁控濺射鍍膜機(jī):內(nèi)腔直徑1680*高度1200，主抽配置3臺(tái)400中科儀分子泵+1臺(tái)翠曼600羅次泵+2臺(tái)70南光機(jī)械泵，輔抽配置一臺(tái)翠曼300羅次泵+1臺(tái)70南光機(jī)械泵，配置10個(gè)佳寧250A弧電..01月23日
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內(nèi)直徑1900*高度1250實(shí)力源中頻磁控濺射鍍膜機(jī)兩套出售 配3套400中科儀分子泵，3套70旋片泵，一套羅次泵，4路ae流量計(jì) 鍍手機(jī)配件，鐘表，首飾，五金零件，貴金屬鍍顏色膜，光學(xué)磁控濺射膜01月23日
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200.00元美國AE公司 中頻電源PE II 性能： 1.程序自動(dòng)保護(hù)功能 2.控制信號(hào)源：模擬/數(shù)字端口或前面板控制 3.調(diào)節(jié)模式：功率，電壓或者電流 4.冷卻及周圍環(huán)境溫度：進(jìn)口端冷卻水的溫度在+5℃到+30 ..01月23日
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39800.00元鄭州科探儀器設(shè)備是定制物理 氣相沉積（PVD）系統(tǒng)的設(shè)計(jì)者和制造商，客戶服務(wù)和售后服務(wù)。擁有7年以上真空和薄膜沉積技術(shù)經(jīng)驗(yàn)。其研發(fā)團(tuán)隊(duì)在學(xué)界科學(xué)家和工程師的支持下，高度積極地開發(fā)新設(shè)..08月02日
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36800.00元KT-Z1650CVD是一款小型臺(tái)式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜儀，儀器雖小，功能。配備有電壓電流反饋，樣口臺(tái)旋轉(zhuǎn)樣高度可調(diào)節(jié)，及電動(dòng)擋板功能。通過定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)熱功率蒸發(fā)功率，可對(duì)大部分金屬進(jìn)地均勻..03月27日
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35600.00元離子濺射儀在掃描電鏡中應(yīng)用十分廣泛,通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導(dǎo)電樣品的荷電現(xiàn)象,并提高觀測(cè)效率,另外可以使用噴碳附件對(duì)樣品進(jìn)行蒸碳,實(shí)現(xiàn)不導(dǎo)電樣品的能譜儀元..03月22日
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38600.00元小型磁控濺射儀主要特點(diǎn)/優(yōu)勢(shì)： ★ 玻璃鐘罩真空腔室，直觀的蒸發(fā)狀態(tài)和薄膜沉積現(xiàn)象觀察； ★ 兩組水冷式蒸發(fā)電極，可長時(shí)間穩(wěn)定工作，兼容金屬材料與有機(jī)材料的蒸發(fā)源設(shè)計(jì)； ★ 真空..02月11日
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1008.00元鈦鋁合金靶材我們能提供的成分：TiAl5 at%,TiAl10 at%,TiAl20 at%,TiAl25 at%,TiAl 30 at%,TiAl40 at%,TiAl50 at%等...我們能提供的純度：99.5%、99.7%、99.8%、99.9%、99.95%、99.99%我們的..12月16日
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