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面議主要技術參數 產品名稱 5KV/2A/10KW二極濺射鍍膜電源 WT10-5K 產品型號 WT10 產品品牌 躍遷 電源類型 全數控智能電源 輸入電壓： AC380V±10% 輸出 功率:..08月19日 -
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300.00元鎳釩靶材名稱：鎳釩（NiV）靶材 Nickel Vanadium Target純度：99.9%，99.95%, 99.99%形狀：平面靶，柱狀靶，電弧靶，異型靶 在集成電路的膜層中一般用金做導電層，但金與..12月13日
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產品名稱：鉬靶材 純度: 99.95% 密度：≥10.2g/cm3 尺寸范圍：--- (可根據客戶需求定制） 外 觀：在顯微鏡下觀察，管子內外表面呈現出均勻的金屬光澤，無氧化、氫化變色、劃傷、變形、毛03月07日
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鉬靶 密度10.2克/立方厘米。熔點2610℃。沸點5560℃。 鉬靶材純度：99.9% ，99.99% 規格：圓形靶，板靶，旋轉靶 鉬靶材廣泛用于導電玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光學玻璃、離子鍍膜等行業，適用所..11月10日
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產品名稱：鉬靶材 純度: 99.95% 密度：≥10.2g/cm3 尺寸范圍：--- (可根據客戶需求定制） 外 觀：在顯微鏡下觀察，管子內外表面呈現出均勻的金屬光澤，無氧化、氫化變色、劃傷、變形、毛08月16日
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連續磁控濺射鍍膜線是一種用于在各種基材表面沉積鍍膜的設備。該設備使用范圍廣，沉積速率快，可實現多層沉積薄膜 1.應用領域廣泛應用于AR鍍膜、ITO、變色玻璃、太陽能電池等行業的不同領..11月27日
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400.00元貴重金屬價格按當日行情報價，下單前請咨詢客服我們生產的5N純金蒸發料檢測數據檢測項目檢測標準檢測結果Au (wt %)≥99.99999.999Ag≤ 2ppm12月13日
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EMI電鍍，EMI真空鍍，EMI鍍膜，EMI真空鍍膜，EMIE濺射鍍膜、EMI真空電鍍技術就是利用磁控濺射鍍膜及特殊復合的工藝在塑膠。五金、及其他基材上，鍍上一層銅、銀、鎳等導電涂層，具有良好的導..03月04日
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450.00元X射線鉬靶 醫用鉬圓靶 ITO靶材 磁控濺射鍍膜鉬靶 高精度磨光鉬板 寶雞宏晟拓 供應真空鍍膜濺射圓靶材鉬圓靶鉬圓餅鉬圓片純鉬靶定做 鉬靶 密度10.2克/立方厘米。熔點2610℃。沸點5560℃。06月25日
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1200.00元氧化鋁靶材Al2O3 Target 陶瓷濺射靶材 氧化鋁顆粒 氧化鋁靶材 三氧化二鋁靶材 純度：99.99% 分子式：Al2O3 分子量：101.96 CAS號：1344-28-1 密度：4 熔點：2045℃ 折射率:1.6-1.65..12月13日
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高純鉬靶是AMOLED面板生產中的關鍵原材料之一，該公司的新產品是適用于TFT-LCD/AMOLED的超寬高純高密鉬平面濺射靶材，主要應用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填補了國內寬幅鉬靶(1800mm)空白，..10月22日
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臺灣富士康用濺射鍍膜設備轉讓雙門蒸發4靶濺射系統1.5米爐體 轉讓富士康真空濺射鍍膜設備4套平面濺射靶帶POLYPOLD深冷 由富士康閑置下來的磁控磁控濺射鍍膜設備帶雙門電阻蒸發系統 采用02月19日
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1500.00元氧化鎂靶材 MgO靶材 氟化鎂靶材 陶瓷濺射靶材 北京金源新材科技有限公司專業從事高純金屬材料生產,采用電子束熔煉,區間熔煉,特殊熔煉,濕法提純,化學提純等工藝,高純金屬純度達到99.99%-99.907月31日
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400.00元產品信息 品名：鉬圓靶，平面鉬圓靶，鉬靶材 牌號： 361，364，Mo1，MLa，TZM 標準： GB/T3876 密度：10.2 g/cm3 純度：99.95% 熔點：2610℃ 使用溫度：真空或惰性氣體下1700℃ ..11月13日
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高純鉬靶是AMOLED面板生產中的關鍵原材料之一，該公司的新產品是適用于TFT-LCD/AMOLED的超寬高純高密鉬平面濺射靶材，主要應用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填補了國內寬幅鉬靶(1800mm)空白，..08月16日
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高純鎳合金鎳釩濺射鍍膜靶材93:7 wt%,蒸發鍍膜顆粒材料，鎳釩合金旋轉靶材 英文名稱：Nickel Vanadium (Ni-V) Sputtering Target，元素比例：Ni93% V7% 專注于生產具有最高密度和最小平均晶..03月18日
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高純鉬靶是AMOLED面板生產中的關鍵原材料之一，該公司的新產品是適用于TFT-LCD/AMOLED的超寬高純高密鉬平面濺射靶材，主要應用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填補了國內寬幅鉬靶(1800mm)空白，..05月25日
黃頁88網提供2025最新濺射鍍膜鉬靶價格行情，提供優質及時的濺射鍍膜鉬靶圖片、多少錢等信息。批發市場價格表的產品報價來源于共4家濺射鍍膜鉬靶批發廠家/公司提供的49091條信息匯總。
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