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- 信息報價
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面議主要技術參數 產品名稱 5KV/2A/10KW二極濺射鍍膜電源 WT10-5K 產品型號 WT10 產品品牌 躍遷 電源類型 全數控智能電源 輸入電壓： AC380V±10% 輸出 功率:..08月19日 -
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300.00元鎳釩靶材名稱：鎳釩（NiV）靶材 Nickel Vanadium Target純度：99.9%，99.95%, 99.99%形狀：平面靶，柱狀靶，電弧靶，異型靶 在集成電路的膜層中一般用金做導電層，但金與..12月13日
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連續磁控濺射鍍膜線是一種用于在各種基材表面沉積鍍膜的設備。該設備使用范圍廣，沉積速率快，可實現多層沉積薄膜 1.應用領域廣泛應用于AR鍍膜、ITO、變色玻璃、太陽能電池等行業的不同領..11月27日
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400.00元貴重金屬價格按當日行情報價，下單前請咨詢客服我們生產的5N純金蒸發料檢測數據檢測項目檢測標準檢測結果Au (wt %)≥99.99999.999Ag≤ 2ppm12月13日
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EMI電鍍，EMI真空鍍，EMI鍍膜，EMI真空鍍膜，EMIE濺射鍍膜、EMI真空電鍍技術就是利用磁控濺射鍍膜及特殊復合的工藝在塑膠。五金、及其他基材上，鍍上一層銅、銀、鎳等導電涂層，具有良好的導..03月04日
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300.00元W1高密度鎢圓靶 Ф76.2*6車光鎢圓 鍍膜鎢圓靶 平面磁控濺射光學鍍膜鎢靶 寶雞宏晟拓金屬材料有限公司 鎢是稀有金屬，也是重要的戰略物資。我國是產鎢大國，鎢資源儲量520萬噸，占世界總06月25日
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1200.00元氧化鋁靶材Al2O3 Target 陶瓷濺射靶材 氧化鋁顆粒 氧化鋁靶材 三氧化二鋁靶材 純度：99.99% 分子式：Al2O3 分子量：101.96 CAS號：1344-28-1 密度：4 熔點：2045℃ 折射率:1.6-1.65..12月13日
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臺灣富士康用濺射鍍膜設備轉讓雙門蒸發4靶濺射系統1.5米爐體 轉讓富士康真空濺射鍍膜設備4套平面濺射靶帶POLYPOLD深冷 由富士康閑置下來的磁控磁控濺射鍍膜設備帶雙門電阻蒸發系統 采用02月19日
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600.00元產品信息 品名：鎢靶，鎢靶材，高純鎢靶，磨光鎢靶 牌號： 361，364，Mo1，MLa，TZM 標準： GB/T3876 密度：10.2 g/cm3 純度：99.95% 熔點：2610℃ 使用溫度：真空或惰性氣體下..04月15日
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1500.00元氧化鎂靶材 MgO靶材 氟化鎂靶材 陶瓷濺射靶材 北京金源新材科技有限公司專業從事高純金屬材料生產,采用電子束熔煉,區間熔煉,特殊熔煉,濕法提純,化學提純等工藝,高純金屬純度達到99.99%-99.907月31日
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800.00元高純鎢靶材 金屬鎢靶 W 99.95% 北京金源新材科技有限公司專業從事高純金屬材料生產,采用電子束熔煉,區間熔煉,特殊熔煉,濕法提純,化學提純等工藝,高純金屬純度達到99.99%-99.99999%,領先國際..07月31日
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高純鎳合金鎳釩濺射鍍膜靶材93:7 wt%,蒸發鍍膜顆粒材料，鎳釩合金旋轉靶材 英文名稱：Nickel Vanadium (Ni-V) Sputtering Target，元素比例：Ni93% V7% 專注于生產具有最高密度和最小平均晶..03月18日
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轉讓富士康真空濺射鍍膜設備4套平面濺射靶帶POLYPOLD深冷 由富士康閑置下來的磁控磁控濺射鍍膜設備帶雙門電阻蒸發系統 采用全不銹鋼爐體，設備直徑1400，高度1500mm采用全自動控制，全部02月19日
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100000.00元倉庫大量多弧中頻鍍膜機 1.3×1.2米多弧中頻機，雙層不銹鋼爐體，2臺400擴散泵，30KW偏壓，2對中頻，1個可移動平面磁控濺射金靶 1300米多弧中頻機，雙層不銹鋼爐體，2臺400分子泵，30KW偏壓..01月23日
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50000.00元深圳市星海威光學鍍膜設備1.應用領域：手機面板、平板電腦登觸控面板。莫氏6H以上的超硬AR膜、超硬減反膜、UV/IR截止濾光片、AF防指紋膜等2.設備分為工藝室和鍍膜室兩部分工藝室劇透離子源清..11月27日
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500.00元X光機鎢靶 車光鎢圓 磨光鎢板 鎢圓靶 寶雞宏晟拓金屬材料有限公司，位于有中國“鈦城”美譽的陜西寶雞高新技術開發區，主要從事鎢、鉬、鉭、鈮、鈦、鋯、鎳等有色金屬及其合金的板、05月05日
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面議磁控濺射鍍膜是一種物理氣相沉積技術，它涉及使用高能量的離子（通常是氬離子）轟擊作為靶材的涂層材料，使其原子被濺射出來并沉積在工件表面形成薄膜。磁控濺射鍍膜檢測標準（部分）1、 T/GV..03月22日
黃頁88網提供2025最新濺射鍍膜鎢靶價格行情，提供優質及時的濺射鍍膜鎢靶圖片、多少錢等信息。批發市場價格表的產品報價來源于共7家濺射鍍膜鎢靶批發廠家/公司提供的28788條信息匯總。
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